Making Tiny Things with Electron Microscope - E-beam Lithography
3-Second Blueprint (English)
- Driving an SEM's external +-10 V scan-coil inputs via a DAC steers the focused electron beam to vector-write nanoscale patterns.
- An electrostatic high-voltage beam blanker deflects or pinches off the beam between features to prevent unwanted trace stringing.
- SU-8 resist spun onto a wafer is exposed under vacuum by the electron beam and rapidly developed with 1-2 s acetone/DI-water rinses.
E-Beam LithographyScanning Electron MicroscopeSU-8 PhotoresistElectrostatic Beam Blanker
3-Sekunden-Fazit (Deutsch)
- Über die externen ±10-V-Ablenkspuleneingänge eines REM steuert ein DAC den Elektronenstrahl zum direkten Schreiben von Mikrostrukturen.
- Ein elektrostatischer Hochspannungs-Beam-Blanker blendet den Strahl zwischen Strukturen aus, um ungewollte Verbindungslinien zu meiden.
- Aufgeschleuderter SU-8-Lack wird im Vakuum per Elektronenstrahl belichtet und in 1–2 s mit Aceton und DI-Wasser entwickelt.
ElektronenstrahllithografieRasterelektronenmikroskopSU-8-FotolackElektrostatik-Blanker
Note / Hinweis: Blueprints are AI-generated educational summaries (0% Politics · 0% Religion · 0% Brainrot) and do not constitute medical, legal, or financial advice. / KI-generierte Zusammenfassung zu Bildungszwecken – ersetzt keine medizinische, rechtliche oder finanzielle Fachberatung.