Zapping Molten Tin at 50,000 Pulses Per Second!
3-Second Blueprint (English)
- A 25 kW pulsed CO2 laser strikes 50,000 molten tin droplets/s twice to form 400,000 °C plasma emitting 13.5 nm EUV light.
- Because air and glass absorb EUV, 40-bilayer Mo/Si Carl Zeiss Bragg mirrors focus the beam 4x inside a high vacuum.
- Dual 10g maglev wafer stages calibrated at 50 kHz by laser interferometers expose sub-nanometer GAA transistor patterns.
EUV Lithography (13.5 nm)Laser-Produced PlasmaMo/Si Bragg MirrorsMaglev Wafer StageCarbon Nanotube Pellicle
3-Sekunden-Fazit (Deutsch)
- Ein 25-kW-CO2-Pulslaser trifft 50.000 Zinntröpfchen/s zweimal und erzeugt 400.000 °C heißes Plasma mit 13,5-nm-EUV-Licht.
- Da Luft und Glas EUV absorbieren, fokussieren 40-lagige Mo/Si-Bragg-Spiegel von Zeiss den Strahl 4-fach im Hochvakuum.
- Zwei 10g-Maglev-Wafertische, mit 50 kHz per Laserinterferometrie kalibriert, belichten GAA-Transistoren subnanometergenau.
EUV-Lithografie (13,5 nm)Lasererzeugtes ZinnplasmaMo/Si-Bragg-SpiegelMaglev-WafertischCNT-Pellikel
Note / Hinweis: Blueprints are AI-generated educational summaries (0% Politics · 0% Religion · 0% Brainrot) and do not constitute medical, legal, or financial advice. / KI-generierte Zusammenfassung zu Bildungszwecken – ersetzt keine medizinische, rechtliche oder finanzielle Fachberatung.