Cut anything, even diamond
3-Second Blueprint (English)
- An ion mill uses roughing and turbomolecular pumps to accelerate ionized argon at several km/s, etching even diamond via sputtering.
- Particle velocity controls kinetic energy and crater depth, while a 100 nm e-beam-patterned aluminum mask protects underlying features.
- Low-energy ion milling corrects nanometer errors on precision optics and cross-sections microchips or sintered metal prints for labs.
Ion beam millTurbomolecular vacuum pumpArgon sputteringElectron-beam lithographyIon implantation
3-Sekunden-Fazit (Deutsch)
- Eine Ionenätzanlage beschleunigt Argon-Ionen im Hochvakuum einer Turbomolekularpumpe auf mehrere km/s und ätzt selbst Diamant.
- Die Teilchengeschwindigkeit steuert die Sputtertiefe, während eine 100 nm dünne Aluminiummaske feine Mikrostrukturen gezielt schützt.
- Sanftes Ionenstrahlätzen korrigiert Nanometerfehler auf Teleskopoptiken und legt Querschnitte von Mikrochips für Mikroskope frei.
Ionenstrahl-ÄtzanlageTurbomolekularpumpeArgon-SputternElektronenstrahllithografieIonenimplantation
Note / Hinweis: Blueprints are AI-generated educational summaries (0% Politics · 0% Religion · 0% Brainrot) and do not constitute medical, legal, or financial advice. / KI-generierte Zusammenfassung zu Bildungszwecken – ersetzt keine medizinische, rechtliche oder finanzielle Fachberatung.